Intel обработала более 1 млн пластин на машинах High-NA EUV

Компания Intel первой на рынке сделала ставку на литографию High-NA EUV и запустила массовое производство чипов. Теперь компания преодолела отметку в 1 млн кремниевых пластин, созданных с помощью этих машин. Об этом сообщает IXBT News.

«Компания Intel первой на рынке сделала ставку на литографию High-NA EUV (EUV-литография с высокой числовой апертурой), первой запустила массовое производство чипов и теперь, как сообщается, преодолела отметку в 1 млн кремниевых пластин, созданных посредством соответствующих машин», — пишет IXBT News.

На достижение этого показателя ушло два года с момента установки первой машины на фабриках компании. Массовое производство началось в июле. В распоряжении компании есть три машины ASML: две TWINSCAN EXE:5000 и одна TWINSCAN EXE:5200B. Это означает, что Intel обработала больше пластин на машинах High-NA EUV, чем вся остальная отрасль вместе взятая.

Подписывайтесь на наш Telegram-канал, чтобы быть в курсе всех новостей и событий Рунета.