Тайвань получил литограф для создания микросхем без фотошаблонов

Национальный университет Цинхуа на Тайване внедрит платформу многолучевой электронно-лучевой литографии MBX от американской компании Multibeam для исследований и разработки технологий нового поколения в микроэлектронике. Поставка оборудования запланирована на 2027 год.

Национальный университет Цинхуа (NTHU) на Тайване внедрит платформу многолучевой электронно-лучевой литографии MBX от американской компании Multibeam. Оборудование будет использоваться для исследований и разработки технологий нового поколения в микроэлектронике. Поставка запланирована на 2027 год. Об этом сообщает издание IXBT News со ссылкой на Multibeam.

«Технология сочетает высокую точность и производительность. Она подходит для создания современных корпусов микросхем, фотонных компонентов, квантовых устройств и специализированных ускорителей искусственного интеллекта», — заявили разработчики.

Система MBX появится в Колледже полупроводниковых исследований NTHU. Её планируют применять не только в научных проектах, но и в совместных разработках с крупнейшими тайваньскими производителями чипов.

Главное преимущество MBX — отказ от традиционных фотошаблонов. Установка формирует рисунок микросхемы непосредственно на кремниевой пластине сразу несколькими электронными лучами. Это позволяет быстро выпускать новые прототипы после завершения проектирования, сокращая сроки разработки и снижая её стоимость.

Для Multibeam этот контракт имеет особое значение. Тайвань считается мировым центром производства передовых полупроводников, поэтому первая установка MBX в регионе может стать для компании важным шагом к сотрудничеству с ведущими производителями микросхем и открыть ей путь на один из самых перспективных рынков отрасли.

Подписывайтесь на наш Telegram-канал, чтобы быть в курсе всех новостей и событий Рунета.