Компания Intel впервые применила литографию High-NA EUV в массовом производстве коммерческих процессоров. Новая технология используется для выпуска отдельных слоев чипов Panther Lake, известных как Intel Core Ultra Series 3. Об этом сообщает издание IXBT News.

«Более высокая числовая апертура позволяет формировать более мелкие элементы микросхем, разрешение увеличилось с 13 до 8 нм», — говорится в материалах компании ASML.

В основе технологии лежат новые литографические установки ASML EXE с числовой апертурой 0,55. Предыдущие системы NXE имели апертуру 0,33. Речь идет о возможностях оптической системы, а не о маркетинговом обозначении техпроцесса.

На данном этапе Intel не производит процессоры полностью по новой технологии. Компания использует два варианта изготовления слоев для чипов Panther Lake — на традиционных установках NXE и на новых EXE. Такой подход позволяет переключать производство между разным оборудованием и снижает зависимость от новых систем.

Стоимость одной установки High-NA EUV составляет около $400 млн, что почти вдвое дороже обычной EUV-машины, по данным Reuters. Переход на новую технологию также требует разработки новых фоторезистов, фотошаблонов и методов измерений, что подразумевает серьезные инвестиции и адаптацию производственных процессов.

Главное преимущество High-NA — возможность формировать сложные структуры за меньшее число этапов. Это сокращает время производства, расход материалов и вероятность дефектов, а также потенциально снижает себестоимость. Для Intel внедрение технологии имеет и стратегическое значение — компания планирует использовать полученный опыт для развития своего контрактного подразделения Intel Foundry в конкуренции с TSMC и Samsung.

Подписывайтесь на наш Telegram-канал, чтобы быть в курсе всех новостей и событий Рунета.